STP603 真空渦輪分子泵 STP603|Edwards真空泵冶金熱處理行業授權代理商

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產品詳情

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產品名稱：STP603 真空渦輪分子泵
產品型號：STP603
產品廠商：渦輪分子泵及分子泵機組
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簡單介紹：

Edwards STP603 是的渦輪分子泵，可用于的半導體應用。Edwards 的轉子可實現的性能，大的制程靈活性。這種泵已經由半導體和磁介質行業的大型設備制造商投入使用，并得到了。

詳情介紹：

概述

Edwards STP603 是的渦輪分子泵，可用于的半導體應用。Edwards 的轉子可實現的性能，大的制程靈活性。這種泵已經由半導體和磁介質行業的大型設備制造商投入使用，并得到了。

應用

金屬（鋁）、鎢和電介質（氧化物）以及多晶硅等離子刻蝕（氯化物、氟化物和溴化物）
電子回旋共振 (ECR) 刻蝕
薄膜沉積 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
濺射
離子注入源，射束線泵送端點站
MBE
擴散
光致抗蝕劑脫模
晶體/晶膜生長
晶片檢查
負載鎖真空腔
科學儀器：表面分析、質譜分析、電子顯微鏡
高能物理：射束線、加速器
放射線應用：融合系統、回旋

入口法蘭	ISO160F
	KF40
抽速
N2	650 ls-1
H2	550 ls-1
壓縮比
N2	>108
H2	>105
加熱時的極限壓力（VG/ISO 法蘭）	6.5 x 10-6 Pa
	(5 x 10-8 Torr)
加熱時的極限壓力（ICF 法蘭）	10-7 Pa
	(10-9 Torr)
大連續壓力	13 Pa (0.1 Torr)
額定速度	35000 rpm
啟動時間	6 分鐘
高入口法蘭溫度	120 °C
輸入電壓	100 至 120 (± 10) V 交流或
	200 至 240 (± 10) V 交流
啟動時的功耗	0.8 kVA
泵重量	31 kg
控制器重量	9 kg

滬公網安備 31011702004244號

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