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            產品詳情
            • 產品名稱:STP603 真空渦輪分子泵

            • 產品型號:STP603
            • 產品廠商:渦輪分子泵及分子泵機組
            • 產品文檔:
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            簡單介紹:
            Edwards STP603 是的渦輪分子泵,可用于的半導體應用。Edwards 的轉子可實現的性能,大的制程靈活性。這種泵已經由半導體和磁介質行業的大型設備制造商投入使用,并得到了。
            詳情介紹:

            概述

            Edwards STP603 是的渦輪分子泵,可用于的半導體應用。Edwards 的轉子可實現的性能,大的制程靈活性。這種泵已經由半導體和磁介質行業的大型設備制造商投入使用,并得到了。

            應用

            • 金屬(鋁)、鎢和電介質(氧化物)以及多晶硅等離子刻蝕(氯化物、氟化物和溴化物)
            • 電子回旋共振 (ECR) 刻蝕
            • 薄膜沉積 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
            • 濺射
            • 離子注入源,射束線泵送端點站
            • MBE
            • 擴散
            • 光致抗蝕劑脫模
            • 晶體/晶膜生長
            • 晶片檢查
            • 負載鎖真空腔
            • 科學儀器:表面分析、質譜分析、電子顯微鏡
            • 高能物理:射束線、加速器
            • 放射線應用:融合系統、回旋
            入口法蘭 ISO160F
            KF40
            抽速
              N2 650 ls-1
              H2 550 ls-1
            壓縮比
              N2 >108
              H2 >105
            加熱時的極限壓力(VG/ISO 法蘭) 6.5 x 10-6 Pa

            (5 x 10-8 Torr)
            加熱時的極限壓力(ICF 法蘭) 10-7 Pa

            (10-9 Torr)
            大連續壓力 13 Pa (0.1 Torr)
            額定速度 35000 rpm
            啟動時間 6 分鐘
            高入口法蘭溫度 120 °C
            輸入電壓 100 至 120 (± 10) V 交流或

            200 至 240 (± 10) V 交流
            啟動時的功耗 0.8 kVA
            泵重量 31 kg
            控制器重量 9 kg

            滬公網安備 31011702004244號

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