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            產品詳情
            • 產品名稱:STPA2203C 真空渦輪分子泵

            • 產品型號:STPA2203C
            • 產品廠商:渦輪分子泵及分子泵機組
            • 產品文檔:
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            簡單介紹:
            Edwards STPA2203C 是為半導體應用而設計的渦輪分子泵。它使用的轉子,可實現的性能,大的制程靈活性。全新的半機架控制器能夠節省更多空間,而且采用直流驅動,無需電池即可運行。STPA2203C 已經由半導體和磁介質行業的大型刻蝕、離子注入和沉積設備制造商投入使用,并得到了。
            詳情介紹:

            概述

            Edwards STPA2203C 是為半導體應用而設計的渦輪分子泵。它使用的轉子,可實現的性能,大的制程靈活性。全新的半機架控制器能夠節省更多空間,而且采用直流驅動,無需電池即可運行。STPA2203C 已經由半導體和磁介質行業的大型刻蝕、離子注入和沉積設備制造商投入使用,并得到了。

            應用

            • 金屬(鋁)、鎢和電介質(氧化物)以及多晶硅等離子刻蝕(氯化物、氟化物和溴化物)
            • 電子回旋共振 (ECR) 刻蝕
            • 薄膜沉積 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
            • 濺射
            • 離子注入源,射束線泵送端點站
            • MBE
            • 擴散
            • 光致抗蝕劑脫模
            • 晶體/晶膜生長
            • 晶片檢查
            • 負載鎖真空腔
            • 科學儀器:表面分析、質譜分析、電子顯微鏡
            • 高能物理:射束線、加速器
            • 放射線應用:融合系統、回旋

            功能和優勢

            的轉子設計  
            • 更高的氣體吞吐量
            • 大的制程靈活性
            5 軸磁懸浮系統  
            • 無污染
            • 少維護
            防腐蝕  
            • 可用于嚴苛制程
            • 使用壽命延長
            緊湊型設計  
            • 占地面積小
            • 半機架控制器
            的控制器設計  
            • 自動調整
            • 自行診斷功能
            • 直流電機驅動
            • 無電池運行

            數據

            入口法蘭 ISO250F
            KF40
            吹掃口 KF10
            水冷卻接頭 PT1/4
            抽速
              N2 2200 ls-1
              H2 1700 ls-1
            壓縮比
              N2 >108
              H2 >2.5 x 104
            極限壓力 10-6 Pa

            (10-8 Torr)
            允許的大前級壓力 400 Pa

            (3 Torr)
            大氮氣吞吐量 1500 sccm
            額定速度 27000 rpm
            啟動時間 7 分鐘
            固定位置 任意
            水冷卻流量 2 lmin-1
            水冷卻溫度 5-25 °C
            壓力 0.3 MPa
            的吹掃氣體流量 20 sccm
            輸入電壓 200 至 240 (± 10) V 交流
            功耗 1.5 kVA
            泵重量 61 kg
            控制器重量 12 kg

            滬公網安備 31011702004244號

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