STPA2203C 真空渦輪分子泵 STPA2203C|Edwards真空泵冶金熱處理行業授權代理商

<menuitem id="px7rt"></menuitem>

<font id="px7rt"></font> <menuitem id="px7rt"></menuitem><font id="px7rt"><em id="px7rt"><thead id="px7rt"></thead></em></font>

<menuitem id="px7rt"></menuitem>

<font id="px7rt"><span id="px7rt"><dfn id="px7rt"></dfn></span></font>

產品詳情

所在位置: 首頁> 產品目錄> Edwards真空泵> STP系列分子泵>

查看大圖

產品名稱：STPA2203C 真空渦輪分子泵
產品型號：STPA2203C
產品廠商：渦輪分子泵及分子泵機組
產品文檔：

你添加了1件商品查看購物車

簡單介紹：

Edwards STPA2203C 是為半導體應用而設計的渦輪分子泵。它使用的轉子，可實現的性能，大的制程靈活性。全新的半機架控制器能夠節省更多空間，而且采用直流驅動，無需電池即可運行。STPA2203C 已經由半導體和磁介質行業的大型刻蝕、離子注入和沉積設備制造商投入使用，并得到了。

詳情介紹：

概述

Edwards STPA2203C 是為半導體應用而設計的渦輪分子泵。它使用的轉子，可實現的性能，大的制程靈活性。全新的半機架控制器能夠節省更多空間，而且采用直流驅動，無需電池即可運行。STPA2203C 已經由半導體和磁介質行業的大型刻蝕、離子注入和沉積設備制造商投入使用，并得到了。

應用

金屬（鋁）、鎢和電介質（氧化物）以及多晶硅等離子刻蝕（氯化物、氟化物和溴化物）
電子回旋共振 (ECR) 刻蝕
薄膜沉積 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
濺射
離子注入源，射束線泵送端點站
MBE
擴散
光致抗蝕劑脫模
晶體/晶膜生長
晶片檢查
負載鎖真空腔
科學儀器：表面分析、質譜分析、電子顯微鏡
高能物理：射束線、加速器
放射線應用：融合系統、回旋

功能和優勢

的轉子設計

更高的氣體吞吐量
大的制程靈活性

5 軸磁懸浮系統

無污染
少維護

防腐蝕

可用于嚴苛制程
使用壽命延長

緊湊型設計

占地面積小
半機架控制器

的控制器設計

自動調整
自行診斷功能
直流電機驅動
無電池運行

數據

入口法蘭	ISO250F
	KF40
吹掃口	KF10
水冷卻接頭	PT1/4
抽速
N2	2200 ls-1
H2	1700 ls-1
壓縮比
N2	>108
H2	>2.5 x 104
極限壓力	10-6 Pa
	(10-8 Torr)
允許的大前級壓力	400 Pa
	(3 Torr)
大氮氣吞吐量	1500 sccm
額定速度	27000 rpm
啟動時間	7 分鐘
固定位置	任意
水冷卻流量	2 lmin-1
水冷卻溫度	5-25 °C
壓力	0.3 MPa
的吹掃氣體流量	20 sccm
輸入電壓	200 至 240 (± 10) V 交流
功耗	1.5 kVA
泵重量	61 kg
控制器重量	12 kg

滬公網安備 31011702004244號

狼友视频在线观看,91超碰人人做人人爱,最新亚洲一区二区三区,全免费A级毛片免费看视频,狠色狠狠色狠狠狠色综合久久