STP-XA2703C 真空渦輪分子泵 STP-XA2703C|Edwards真空泵冶金熱處理行業授權代理商

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產品詳情

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產品名稱：STP-XA2703C 真空渦輪分子泵
產品型號：STP-XA2703C
產品廠商：渦輪分子泵及分子泵機組
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簡單介紹：

STP-XA2703C 渦輪泵為高真空到 2300 sccm 制程流的制程范圍內提供高性能，并提高氣體的吞吐量。此泵基于新的平臺設計，提供功能以改善熱管理，從而增強在嚴苛制程中的性能，提高大制程流能力，并減少腐蝕和沉積的影響。其出色的性能既適用于溫和的應用環境，也適用于嚴苛的環境，例如半導體刻蝕、注入、光刻和 LCD 制程。

詳情介紹：

概述

STP-XA2703C 渦輪泵為高真空到 2300 sccm 制程流的制程范圍內提供高性能，并提高氣體的吞吐量。
此泵基于新的平臺設計，提供功能以改善熱管理，從而增強在嚴苛制程中的性能，提高大制程流能力，并減少腐蝕和沉積的影響。
其出色的性能既適用于溫和的應用環境，也適用于嚴苛的環境，例如半導體刻蝕、注入、光刻和 LCD 制程。

應用

金屬（鋁）、鎢和電介質（氧化物）以及多晶硅等離子刻蝕（氯化物、氟化物和溴化物）
電子回旋共振 (ECR) 刻蝕
薄膜沉積 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
濺射
離子注入源，射束線泵送端點站
MBE
擴散
光致抗蝕劑脫模
晶體/晶膜生長
晶片檢查
負載鎖真空腔
科學儀器：表面分析、質譜分析、電子顯微鏡
高能物理：射束線、加速器
放射線應用：融合系統、回旋

功能和優勢

的轉子設計

增強的 H2、N2 和 Ar 性能
改進了在高真空到 2300 sccm 制程壓力范圍內的性能
免維護

5 軸磁懸浮系統

無污染
低振動

性轉矩管理

獲得的轉矩減少機械裝置

優化的溫度管理系統

高溫 TMS 能力
低沉積
內置冷卻機械裝置
更高的氣體吞吐量（加熱和未加熱）
延長壽命
可用于嚴苛制程

符合 SEMI®，具有 CE 標記，列于 UL 中

數據

入口法蘭	VG250
抽速
N2	2650 ls-1
H2	2050 ls-1
壓縮比
N2	>108
H2	>6 x 103
極限壓力	10-7 Pa
大允許前級壓力	266 Pa
大允許氣體流量
N2（水冷卻）	2300 sccm
	(3.8 Pam3s-1)
Ar（水冷卻）	1900 sccm
	(3.2 Pam3s-1)
額定速度	27500 rpm
啟動時間	8 min
固定位置	任何方向
水冷卻流量	3 lmin-1
水冷卻溫度	5-25 °C (41-77 °F)
壓力	0.3 MPa
的吹掃氣體流量	50 sccm (8.4 x 10-2 Pam3s-1)
輸入電壓	200 至 240 V 交流(± 10)
功耗	1.5 kVA
泵重量	75 kg (165 lb)
控制器重量	12 kg (26.4 lb)

滬公網安備 31011702004244號

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