產品詳情
簡單介紹:
Edwards 半導體真空泵已經過現場應用證明,可以按照高工作標準運行。通過延長使用壽命、提高運行時間并提高生產率,同時大程度地減小占地面積、降低運行成本,實現了高的性和性能。
iH 系列為難以執行的制程(如存在微粒、易冷凝和腐蝕性副產品的 PECVD 和 LPCVD 制程)提供了高性。
詳情介紹:
概述
Edwards 半導體真空泵已經過現場應用證明,可以按照高工作標準運行。通過延長使用壽命、提高運行時間并提高生產率,同時大程度地減小占地面積、降低運行成本,實現了高的性和性能。
iH 系列為難以執行的制程(如存在微粒、易冷凝和腐蝕性副產品的 PECVD 和 LPCVD 制程)提供了高性。
iH 系列為難以執行的制程(如存在微粒、易冷凝和腐蝕性副產品的 PECVD 和 LPCVD 制程)提供了高性。
應用
- 負載鎖
- 輸送
- 計量
- 平版印刷
- PVD 制程
- PVD 預清潔
- RTA
- 剝離/灰化
- 刻蝕
- 植入源
- HDP CVD
- RTP
- SACVD
- MCVD
- PECVD
- LPCVD
- ALD
有關任何特定應用條件下 iH 系統穩定性的建議,請與 Edwards 聯系。
數據
峰值速度 | 1000 m3h-1 |
589 cfm | |
16670 l min-1 | |
極限真空 | 1 x 10-3 mbar |
7.5 x 10-4 Torr | |
0.1 Pa | |
典型軸封氮流量 | 4 slm |
進氣口連接 | ISO100 |
連接 | NW40 |
15 psi 壓降下典型冷卻水流量 | 240 l h-1 |
4 l min-1 | |
重量 | 430 kg |
極限功率輸入 | 3.8 kW |
電機額定功率 | 6.1 kW |
油容量 | 1.48 l |
數字均為無氣鎮時的典型值。